以硅材料為主體的半導(dǎo)體工業(yè)中，涉及到種類繁多的氣體，實(shí)現(xiàn)氣相淀積、離子注入、等離子刻蝕、鈍化保護(hù)等工藝過程。

半導(dǎo)體工業(yè)中的**隱患主要是有毒氣體和腐蝕性氣體。其中，毒性較強(qiáng)的氣體包括鍺烷（GeH4）、磷烷（PH3）、砷烷（AsH3）、氫化銻（SbH3)、三氟化磷（PH3）等，毒性較弱但具有刺激性的氣體包括氨氣(NH3)、硅烷（SiH4）、三氟化硼（BF3）、四氟化硫（SF4）等，具有強(qiáng)腐蝕性的氣體包括SiF4、HF等。

其中，用于硅及其化合物氣相淀積*常用的硅烷在室溫下濃度超過1%時(shí)在空氣中會(huì)發(fā)生自燃，容易引起火災(zāi)；而用于外延、摻雜等工藝的磷烷、砷烷，則具有強(qiáng)烈的血溶性毒性，是和硅烷一起作為半導(dǎo)體工業(yè)中*主要的檢測(cè)氣體；在III-V族材料刻蝕中常常用到氯基的氣體，容易引起眼及上呼吸道刺激癥狀，一般報(bào)警點(diǎn)在8ppm左右；還有一些氣體，例如SF6，主要用于硅及其化合物的刻蝕，雖然純品無毒，但在高溫電弧作用下會(huì)分解成一系列有毒的氣體，包括SF4、S2F2、HF等，因此這些含硫或含氟的有毒氣體也是半導(dǎo)體工業(yè)中重點(diǎn)監(jiān)控的對(duì)象。

由于半導(dǎo)體工業(yè)中的危害性氣體種類繁多，每個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)的工廠都會(huì)需要大量的氣體報(bào)警儀，目前該領(lǐng)域中應(yīng)用的氣敏元件絕大多數(shù)是電化學(xué)氣體傳感器。